工艺展览
出资548亿元光驰半导体原子层镀膜与刻蚀设备项目开工
2023.11.27
作者: 工艺展览
9月23日,光驰半导体技能(上海)有限公司原子层镀膜与刻蚀设备项目开工奠基仪式在上海宝山高新区举办。
据悉,光驰半导体项目占地50亩,总出资5.48亿元,定位新式电子元器件及设备制作,使用全球泛半导体产业链的调整与相关前沿研制的投入与技能整合,完成电子专用设备制作产业化、规模化,成为光驰研制总部立异高地。项目悉数建成后将具有年产高精度原子层镀膜机120台和5台刻蚀机的产能。
光驰半导体技能(上海)有限公司是光驰科技(上海)有限公司的全资子公司。光驰科技官网音讯指出,该项意图开工标志着上海光驰的镀膜设备出产占地面积到达5.33万平方米,能够有更大的制作空间与产能提高,以及光驰的产品线从传统光学到半导体光学交融,光学元器件向半导体集成光学的改变。
光驰科技(上海)有限公司建立于2000年,是株式会社光驰(OPTORUN CO.,LTD)出资建立,以高精度镀膜机的提着与制作为根底的外资独资型企业。
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