工艺展览
光学镀膜是怎么作业的?
光的干与在薄膜光学中运用广泛. 光学薄膜技能的遍及办法是凭借真空溅射的办法在玻璃基板上涂镀薄膜. 光学镀膜是光学器材上的单个或多个资料堆积薄层, 完成多样功用, 典型运用例如在镜片镀膜中, 为了消除光学零件外表的反射丢失, 进步成像质量, 涂镀一层或多层通明介质膜, 称为增透膜或减反射膜. 薄膜堆积在新式特别功能资料的开发和研讨中起到重要作用.
待镀膜工件装入镀膜室, 其内将履行喷溅工艺流程. 通常是两个离子源, 一个溅射堆积源, 一个预清洁和辅佐堆积源. 离子源在真空环境中产生离子束, 离子束炮击溅射方针, 溅射的原子(分子)堆积在衬底上构成薄膜, 从而将薄膜加镀到工件上. 此处所需的典型线 hPa. 清洁无碳真空环境和高安稳的离子束流是完成精确的高质量的薄膜要害.
经过运用上海伯东美国 KRi 离子源可完成基板清洁和加快镀膜资料的溅射速度, 并且离子源在资料堆积过程中可协助堆积并使堆积后的薄膜更为细密, 膜基附着力更好, 膜层不易掉落. 其间离子源供给高能量, 低浓度的离子束, 离子源单次工艺时刻更长, 合适多层膜的制备和离子溅镀镀膜工艺.
不论是蒸腾镀膜仍是溅射镀膜, 上海伯东供给满意各种镀膜工艺的德国 Pfeiffer 真空泵, 比方分子泵, 旋片泵, 螺杆泵及整套泵站, 一起供给用于真空丈量的真空规和用于镀膜设备腔体密封性走漏检测的氦质谱检漏仪, 以确保镀膜工艺安稳性.
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相移长周期光纤光栅;;传输矩阵;;薄膜厚度;;损耗峰【DOI】:CNKI:SUN:GXXB.0.2010-03-008【正文快照
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